2024年11月04日 17:35:34機(jī)構(gòu)：預(yù)計(jì)ASML High NA EUV光刻機(jī)功耗約1400千瓦
《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》4日訊，TechInsights表示，每臺(tái)ASML 0.33 NA EUV光刻機(jī)的功耗就已經(jīng)達(dá)到了1170kW，而0.55NA (High NA) 光刻機(jī)的功耗預(yù)計(jì)將進(jìn)一步增長(zhǎng)至1400kW。
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