近日，九峰山實驗室、華中科技大學組成聯(lián)合研究團隊，依托九峰山實驗室工藝平臺，支持華中科技大學團隊研究“雙非離子型光酸協(xié)同增強響應的化學放大光刻膠”技術。這一具有自主知識產(chǎn)權的光刻膠體系已在產(chǎn)線上完成了初步工藝驗證，并同步完成了各項技術指標的檢測優(yōu)化，實現(xiàn)了從技術開發(fā)到成果轉化的全鏈條打通。

光刻膠按下游應用領域可分為PCB、LCD/OLED面板和半導體光刻膠，與光刻膠配套試劑一起在光刻工藝中作為耗材。其中半導體光刻膠壁壘最高，市場增速高于整體光刻膠市場增速。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2022年全球半導體光刻膠市場規(guī)模為26.4億美元，同比增長6.82%；大陸半導體光刻膠市場規(guī)模為5.93億美元，同比增長20.47%，增速遠高于全球半導體光刻膠市場。國投證券馬良分析指出，半導體光刻膠壁壘高，高端半導體光刻膠國產(chǎn)市場需求迫切。

據(jù)財聯(lián)社主題庫顯示，相關上市公司中：

強力新材是國內少數(shù)布局光刻膠專用電子化學品的企業(yè)，技術和產(chǎn)品已經(jīng)覆蓋了PCB干膜光刻膠、LCD光刻膠、半導體光刻膠等主要光刻膠種類中的關鍵原材料品種。

揚帆新材部分光引發(fā)劑產(chǎn)品下游可應用于光刻膠領域。